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  • 20235-27
    高低溫探針臺-解釋塞貝克系數(shù)測量原理及系數(shù)

    塞貝克系數(shù)(SeebeckCoefficient)也稱為熱電偶效應或Seebeck效應,是指兩種不同導體(或半導體)材料在一定溫差下產(chǎn)生熱電動勢的現(xiàn)象。塞貝克系數(shù)是研究熱電材料(將熱能轉化為電能的材料)非常重要的一個參數(shù),它用來衡量材料在一定溫差下產(chǎn)生的熱電壓。塞貝克系數(shù)的測量方法有很多種,其中一種常用的方法是恒流法。首先準備一個熱電偶,它由兩種不同材料的導線組成。然后將熱電偶的其中一個節(jié)點保持在恒定的高溫T1,而另一個節(jié)點保持在低溫T2(不同于T1),使熱電偶產(chǎn)生熱電動勢(...

  • 20235-26
    真空加熱腔體的正確操作步驟

    真空加熱腔體是一種用于加熱材料的裝置,其原理是在真空環(huán)境下對材料進行加熱,通過熱傳導的方式使其達到所需溫度。與常壓加熱相比,真空加熱可以減少氧化反應、避免污染、增加溫度控制的精度等優(yōu)點。由真空室、加熱元件、溫度控制器等組成。真空室內(nèi)部的氣體與外界隔絕,可以通過真空泵將其抽出,使腔內(nèi)產(chǎn)生真空環(huán)境。加熱元件一般由加熱器、熱交換器和傳感器等部分組成,加熱器主要是產(chǎn)生熱量,熱交換器用于將熱能傳遞給腔體內(nèi)的物質(zhì),傳感器則用于監(jiān)測溫度。溫度控制器根據(jù)傳感器讀數(shù)控制加熱器的加熱功率,以保持...

  • 20235-25
    等離子清洗機操作介紹

    真空度顯示:顯示腔體內(nèi)部的真空度數(shù)值運行程序段:分為3個步驟,綠色表示運行狀態(tài)①真空泵啟動②射頻電源打開③放氣進氣流量顯示:通過調(diào)節(jié)A、B流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)氣體進入腔體的大小,在兩個圖標顯示,上部顯示為A流量,下部顯示為B流量時間:顯示設備清洗時間功率:顯示當前設備清洗是清洗功率設備溫度:顯示當前射頻電源設備溫度放氣狀態(tài):顯示當前放氣閥開啟或關閉狀態(tài)清洗時間:點擊可設置設備運行清洗時間清洗功率:點擊可設置設備運行清洗功率開始運行:點擊可切換設備開始運行或者停止運行參數(shù)設置:非專業(yè)...

  • 20235-8
    氫氧機安裝步驟

    1、氫氧機1500w需要獨立插座2、配置溶液需要提前配置液體配置流程在通風良好處,帶好防護措施手套口罩10升左右的純水(蒸餾水或去離子水)。容器和攪拌棒需要塑料或者玻璃材質(zhì),然后將箱子里的三桶氫氧化鉀緩慢的倒入水桶中,同時攪拌(液體會放出熱量及刺激性氣味,具有腐蝕性),攪拌至全部溶解為止。放置在通風處到常溫狀態(tài)設備加入容易之后可以前后推動搖晃一下以便在腔體內(nèi)部均勻分布3、添加過濾溶液4、連接管道管道連接順序出氣口→管道→回火閥→火焰槍頭火焰槍頭一般選取最大號(出氣口最大的)注...

  • 20234-17
    小型濺射儀問題解答

    小型濺射儀儀問儀答最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數(shù)問的問題比較多,今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術加上*數(shù)學算法,進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳但是鎳是導磁金屬所以需要靶材盡量薄0.5mm-1mm最好太厚磁場無法穿透濺射速率很低。3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié):1靶...

  • 20234-17
    高低溫真空探針臺的使用方法非常簡單,一看就會

    高低溫真空探針臺適用于各種場合下的材料表面處理實驗和研究、包括晶體生長、化學氣相沉積、材料蝕刻、物理蒸發(fā)、表面定量分析、測試小時過程等。它是一種非常有效的用于研究各種新型材料的技術工具,如半導體、涂層、金屬、陶瓷、光學和納米復合材料等領域,主要用于測試物品在高低溫和真空環(huán)境下的性能表現(xiàn)。高低溫真空探針臺的使用方法:1.按照說明書所示步驟進行安裝調(diào)試,并保證連接牢固、接口不漏氣,以確保測試結果準確可靠。2.儀器啟動后應根據(jù)需要和規(guī)定時間預熱,然后在正式測試之前要對儀器進行調(diào)整,...

  • 20234-1
    你并不了解小型濺射儀

    小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動,它們的運動路徑不僅很長,而且被束縛在靠近靶表...

  • 20233-16
    鄭科探小型濺射儀KT-1650PVD如何安裝

    KT-1650PVD小型濺射儀使用指南1、所需配套設備:小型濺射儀,水冷機,真空泵,高純氬氣2、配套設備安裝準備工作水冷機:(此設備為選配配件)本公司配備水冷機型號JZ-3000.進出水口接口為6mm快插接頭,配套6米透明PU管,外徑6mm內(nèi)徑4mm加水6升。建議加入純水、去離子水,如沒有條件加入自來水也可。若自行準備水冷機,請匹配合適接頭安裝方法:將設備背面進出水口連接設備背面進水口,公司標配6m透明PU管,可根據(jù)現(xiàn)場實際情況進行裁剪。(設備背面接口無進出水口之分,可任意接...

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